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大容量光催化反應器CY-GHX-B光化學降解設備

大容量光催化反應器CY-GHX-B光化學降解設備

更新時間:2019-12-12
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大容量光催化反應器CY-GHX-B光化學降解設備,主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品,測定反應動力學常數,測定量子產率等功能,廣泛應用化學合成、環境保護以及生命科學等研究領域。

大容量光催化反應器CY-GHX-B光化學降解設備的詳細資料:

大容量光催化反應器CY-GHX-B光化學降解設備

主要特征:

1.光化學反應儀智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實時變化

2.進口光源控制器,內置光源轉換器,功率連續可調,穩定性高

3.光化學反應儀具有分步定時功能,操作簡便

4.反應暗箱內壁使用防輻射材料,且帶有觀察窗

5.采用內照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質,經久耐用

6.配有大功率磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光

7.雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環維持反應溫度

8.光化學反應儀高溫度保護系統,自動斷電功能

9.機箱外部結構設有循環水進出口,內部設有2個插座,供燈源和攪拌反應器用。

 

反應暗箱:

主體箱是放置系列光化學反應儀光照裝置的地方,具有以下特征:

1、箱體內部為黑色,以降低光反射。

2、箱體后部有冷卻水進出口。

3、調節控制器上面的光光源功率旋鈕,使所使用光源功率處于zui大狀態,這樣利于燈管激亮。

4、依次打開控制器上面的風扇開關、反應器和燈開關,風扇開始工作(反應暗箱內空氣開始外排。

5、打開八位反應器(或磁力攪拌器)上面的電源開關,按需調節攪拌速度。

6、光源功率調節位于控制器中心位置,可按需調節光源功率大小。

7、控制器右上方設有微電腦定時器,可按需設置工作時間。

注:無論使用汞燈或氙燈做實驗時,必須將燈源放置在石英冷阱內使用(建議同時配套低溫冷卻循環裝置使用,避免溫度過高造成儀器損壞)。

 

大容量光催化反應器CY-GHX-B光化學降解設備

技術參數:

型號:CY-GHX-B大容量光化學反應儀

(一)主體部分

1.光源功率可連續調節大小。

2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。

4.氙燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。

5.金鹵燈功率調節范圍:0~500W可連續調節。

(二)大容量反應部分

1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

 

 

光催化凈化技術主要是利用光催化劑二氧化欽(T'02)吸收外界輻射的光能,使其直接轉變為化學能。當能量大于Ti02禁帶寬度的光照射半導體時,光激發電子躍遷到導帶,形成導帶電子(e-),同時在價帶留下空穴階(h+)。由于半導體能帶的不連續性,電子和空穴的壽命較長,它們能夠在電場作用下或通過擴散的方式運動,與吸附在半導體催化劑粒子表面上的物質發生氧化還原反應,或者被表面晶格缺陷俘獲。空穴和電子在催化劑粒子內部或表面也能直接復合,空穴能夠同吸附在催化劑粒子表面的月口一或HZO發生作用生成經基自由基HO " , HO.是一種活性很高的粒子,能夠無選擇的氧化多種有機物并使之礦化。

由于光催化還屬于一種新興的技術,有很多因素還需要額外考慮,諸如納米光催化劑的制備技術、納米光催化劑的高活性和高壽命技術、納米光催化劑的固載化技術和納米光催化劑反應的設計技術,這些因素的實現勢必會使得凈化器價格攀升,從而影響推廣。然而該技術zui大的不足在于,從利用太陽光效率的角度看,半導體的光吸收波長范圍狹窄,主要在紫外區,利用太陽光的比例低;光生載流子的復合率很高,導致量子效率較低。

 

 

光學儀器起霧的原因及其危害

  霧是指光學零件的拋光面上,呈現出"露水"似的物質,這些物質有的是油質點子構成的,稱為油性霧,有的是由水珠或水與玻璃起化學反應形成堆積物構成的,稱為水性霧:有的光學零件上,兩種霧都有,叫做水油混合霧,一般的都以"露水"狀或干的堆積物存在于玻璃表面上。油性霧通常分布在元形光學零件的邊緣,并向中央伸延,有的則沿擦拭痕跡分布,油性霧的形成主要是油脂污染了玻璃表面,或是由于油脂的擴散,揮發在玻璃表面凝結而造成的,比如擦拭光學零件所用的輔料含脂量高,或者所用的工具帶有油脂,用手指直接拿取和觸及光學零件等,都會引起油性霧,或者是光學儀器上所用油脂的化學穩定性不好,產生擴散或使用方法不當涂油過多,油脂擴散到光學零件上而引起油性霧,或者是由于儀表油脂揮發性很大,會產生油質蒸氣而形成油性霧,還有的是用汽油清洗金工零件時,沒有讓汽油充分發揮干凈,就涂油裝配。還有的用汽油稀釋放塵脂涂在鏡身內,隨著時間的增長和溫度的變化,這些汽油及所含的其它成份,逐漸揮發至光學零件上而形成油性霧。

  水性霧是由于潮濕空氣在溫度變化下而形成,主要分布在零件的全面積上,產生原因主要是潮濕氣體所致,但與儀器密封性能、光學玻璃的化學穩定性,以及玻璃表面的清潔程度有關,在較高的相對濕度下,霉菌易生長,有些霉菌生長狀大后,便在菌絲體周圍產生分泌物,這些分泌物有的是液狀的,在液狀分泌物外圍便形成水性霧。不管何種原因形成的霧,由于霧滴以曲率半徑極小的球形分布于光學零件表面上、使入射光線產生散射現象,除了降低儀器的有效透光率外,并使成象質量差影響觀測。有的光學零件因長期起霧,被腐蝕的玻璃表面形成很多微孔,嚴重的會使玻璃零件報廢。光學儀器起霧不僅在我國東南地區嚴重存在,就是較干燥的地區,由于溫差變化,也會起霧,它比光學儀器生霉的影響范圍更大,而且更難防止。

 

 


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